高周波磁気デバイスの研究・生産及び新本社設立に120億円投資
時間：2021-01-12読んだ：
弊社は、年間5000万個の高周波磁気デバイス（インダクタ）の生産ライン（敷地3.3万㎡）を投資し、磁性材料基礎科学研究センター、超微細金属粉末研究センター、金属軟磁コアと高周波デバイス研究センターを持つ新本社（1万㎡）の設立に120億円を投資することを決定した。
弊社は、年間5000万個の高周波磁気デバイス（インダクタ）の生産ライン（敷地3.3万㎡）を投資し、磁性材料基礎科学研究センター、超微細金属粉末研究センター、金属軟磁コアと高周波デバイス研究センターを持つ新本社（1万㎡）の設立に120億円を投資することを決定した。